nine_inch_nerd schreef op 8 maart 2025 10:34:
Het blijven Chinezen...
Uit het ASML draadje.
Geruchten/berichten zijn er al langer deze week.
Vannacht meer info...Discussies op X van Z.O. Azië experts.
China vergevorderd in de ontwikkeling van een eigen EUV-machine.
De in China zelf ontwikkelde EUV-machine, die gebruikmaakt van laser-induced discharge plasma (LDP)-technologie, die verschilt van de LPP-benadering die ASML toepast, wordt momenteel getest in de fabriek van Huawei in Dongguan. De proefproductie staat gepland voor Q3 2025, massaproductie voor 2026.China is out competing ASML.
The laser-induced discharge plasma (LDP) EUV generation commercialization push is a DeepSeek moment for lithography that I was fearful of.
LDP is much more efficient than laser produced plasma (LPP) which ASML uses. LDP vaporizes a small quantity of tin into a cloud between two electrodes and then use high voltage to convert the tin vapor to plasma. The electrons collide with tin ions to produce the 13.5 nm EUV light. LPP requires high-energy laser and complex FPGA real time control electronics.
The LDP approach is simpler, smaller, more cost-effective and better energy efficiency.Bijlage: hierbij een vergelijking tussen de LDP-generatieaanpak en de LPP-generatieaanpak.