zjeeraar schreef op 21 november 2023 12:19:
Onderstaand bericht kwam ik ook nog tegen en geeft toch wel aan dat de machines van ASML gewoon worden door ontwikkelt.
Men praat al over atomen i.p,v. nano-techniek........
ASML scherpt overlay aan van 4 naar 2 nanometer
ASML heeft de nauwkeurigheid waarmee zijn lithografische machines verschillende patronen op elkaar kunnen afbeelden spectaculair verbeterd.
De technische term voor dit passen en meten op nanoschaal is overlay.
Het is de mate waarbinnen het hele patroon van twee opeenvolgende belichtingen ten opzichte van elkaar verschoven is. Hoe kleiner de overlay, hoe beter de fit. De meest geavanceerde Twinscan-machines van ASML halen momenteel een overlay van 4 nanometer, pakweg twaalf atoomlengtes.
De technici uit Veldhoven hebben nu aangetoond dat een overlay van 2 nanometer haalbaar is.
René Raaijmakers